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1500℃電磁掛樣立式淬火爐
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1100℃管式爐（過渡金屬硫族化合物二維CVD層固體前驅(qū)體升華劑研究）
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1700℃立式爐
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1200℃氣氛控制立式淬火爐（100mm管徑）
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超聲霧化熱解爐（配100mm爐管，噴霧噴嘴和自動進料系統(tǒng)）
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1100℃雙溫區(qū)分體式管式爐（配100mm石英管，真空法蘭）
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1200℃小型開啟式立式管式爐（φ25mm或50mm石英管）
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1200℃小型流化床CVD爐（帶1英寸外徑石英管和法蘭，用于粉末CVD）
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1100℃小型 氣氛控制淬火爐 (φ50*600mm,液體罐Φ100mm×80mm)
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1650℃布里奇曼單晶生長爐
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1100℃真空箱式爐 （配7.6L腔室,直通法蘭）
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1500℃雙溫區(qū)回轉(zhuǎn)爐（配60mm氧化鋁管）
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1100℃三溫區(qū)粉末CVD回轉(zhuǎn)爐（配381mm內(nèi)徑石英管）
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1200℃雙溫區(qū)旋轉(zhuǎn)CVD爐（100mm）
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1200℃小型開啟式管式爐，帶可插入式溫度校準器和真空系統(tǒng)
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1200℃微型開啟式管式爐 (200mm加熱區(qū),帶密封法蘭和 可選尺寸石英管)
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容積式自動進料器
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1150℃三溫區(qū)管式爐
皖公網(wǎng)安備 34012302000974號
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