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1700℃雙溫區(qū)管式爐
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1200℃三溫區(qū)三通道混氣真空滑動(dòng)管式爐（配130mm石英管和防腐真空計(jì)）
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1200℃雙溫區(qū)4坩堝分體式HPCVD爐（帶進(jìn)樣系統(tǒng)）
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1200℃雙坩堝移動(dòng)型管式爐
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開啟式單溫區(qū)管式爐，帶5英寸直徑石英管和真空法蘭，36英寸加熱區(qū)
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1200℃混合爐（箱式/管式二合一，雙爐管，7.2L，爐腔尺寸：300*200*120mm）
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1100℃快速升溫/降溫滑軌管式爐(50mm管徑)
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三溫區(qū)搖擺管式爐
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1000℃微型管式爐 （帶20mm管和真空法蘭）
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1600℃一體式管式爐，帶真空法蘭和閥門，可選60或80mm氧化鋁管
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1500℃ 8通道管式爐
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2000℃高真空氣氛燒結(jié)爐
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1700℃管式爐系列（290 mm加熱區(qū)，帶 60 或 80 mm 外徑剛玉管和法蘭）
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1700℃搖擺管式爐（60mm氧化鋁管）
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1200℃七溫區(qū)開啟式管式爐
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1100℃雙管滑動(dòng)快速加熱冷卻爐
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1200℃小型坩堝移動(dòng)管式爐
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1200℃坩堝可移動(dòng)型HPCVD爐
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1700℃真空/氣氛控制自動(dòng)淬火爐 （ID 60mm，一鍵淬火操作）
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1700℃立式粉體球化爐
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1500℃電磁掛樣立式淬火爐
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1100℃管式爐（過渡金屬硫族化合物二維CVD層固體前驅(qū)體升華劑研究）
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1700℃立式爐
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1200℃氣氛控制立式淬火爐（100mm管徑）
皖公網(wǎng)安備 34012302000974號(hào)
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