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800℃ CSS/RTP快速熱蒸鍍爐（配5英寸旋轉(zhuǎn)樣品臺）
關(guān)鍵字：
CSS、短波燈管，快速升降溫，RTP
型號：
OTF-1200X-RTP-II-5-R
產(chǎn)品概述：
OTF-1200X-RTP-II-5-R是一款5英寸近距離旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)鍍膜爐，其爐腔體是一直徑為11英寸的石英管。此款設(shè)備專門設(shè)計針對于熱蒸發(fā)或CSS（Close?Spaced?Sublimation）鍍膜實驗，其載樣臺尺寸5"x5"，并且頂部載樣臺可旋轉(zhuǎn)，提高鍍膜均勻性。此款高溫爐的加熱元件是兩組紅外燈管（分別位于頂部和底部），最大升溫速率為10oC/s?。
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技術(shù)參數(shù)產(chǎn)品視頻實驗案例警示/應(yīng)用提示配件詳情
設(shè)備名稱

800℃ CSS（斜杠）RTP快速熱蒸鍍爐（配5英寸旋轉(zhuǎn)樣品臺）-OTF-1200X-RTP-II-5-R （2019.10.24--科晶實驗室審核）
產(chǎn)品提示

1.科晶實驗室邀請?zhí)崾?/span>  2.圖片未及時更新提示  3.多種配件可選提示  4.危險設(shè)備操作提示
主要特點

·快速升溫，最高達10℃/s。

·最高溫度可達800℃。

·由兩組紅外燈管作為加熱元件，分別位于頂部和底部，兩溫度控制器進行獨立控溫。

·兩樣品臺距離以及旋轉(zhuǎn)均可通過觸摸屏控制。

·頂部載樣臺可旋轉(zhuǎn)。

 加熱臺升降GIF.gif   加熱臺升降GIF2.gif


 旋轉(zhuǎn)GIF.gif   恒溫精度GIF.gif
基本參數(shù)

·工作溫度：最高800℃，兩個加熱區(qū)之間的最大溫差為300℃  

·最快升溫速率：10 ℃/s

·冷卻速率：>10 ℃/s（800-300℃）       

·真空度：20Pa（機械泵），10E-1Pa（分子泵）

·控溫精度：+/-0.1℃（歐陸表）           

·加熱元件：紅外燈管 

·最大功率：10KW(>50A保險)        

·熱電偶：K熱電偶

·超溫和斷偶保護        

·設(shè)備電源：AC220V/50HZ 單相


更多參數(shù)請聯(lián)系科晶銷售部
加熱元件和載樣臺

·由兩組紅外燈管作為加熱元件，分別位于頂部和底部

·兩個加熱臺之間的距離可以通過直流電機調(diào)節(jié)（觸摸屏控制）

·頂部載樣臺轉(zhuǎn)速可調(diào)，0-10 r/min（觸摸屏控制）

·為了減少熱量輻射和達到較快的冷卻速率，加熱元件安裝在帶有水冷夾層的不銹鋼殼體中（不銹鋼殼體采用316不銹鋼制作）

·采用導(dǎo)熱率較高的氮化鋁陶瓷片（5"×5"×0.5mm厚度）作為載樣臺，以達到較好的加熱均勻性


1.1.jpg    1.2.jpg    1.3.jpg    加熱GIF.gif
真空法蘭

·真空法蘭為316不銹鋼制作

·頂部法蘭（可通過控制盒進行上升和下降）：

  一機械壓力表

  一KF16接口，可以安裝防腐真空計

  兩個不銹鋼精密針閥用于氣體的進出

·底部法蘭：

  一KF25接口，可以與真空泵相連接

  法蘭是通過兩個硅膠O型圈進行密封


     2.jpg
尺寸

790mm × 600mm × 1100mm


3 尺寸.jpg
認(rèn)證

·若客戶出認(rèn)證費用，本公司保證單臺設(shè)備通過德國TUV認(rèn)證或者CAS認(rèn)證。
質(zhì)保

一年質(zhì)保期，終生維護（不包括密封圈、加熱元件和石英管）

科晶實驗室對OTF-1200X-RTP-II-5-R設(shè)備做了一系列實驗研究：

蒸鍍物料：硒化銻；基底：石英片

結(jié)論：基底310℃，蒸發(fā)源700℃，蒸鍍3min以上可在石英片上蒸鍍硒化銻。


基底溫度/℃

蒸發(fā)源溫度/℃

蒸鍍后

310

560

圖片1.png

320

570

圖片2.png

330

580

圖片3.png

340

590

圖片4.png

350

600

圖片5.png

370

620

圖片6.png

310

700

蒸鍍2min

圖片7.png

310

700

蒸鍍3min

圖片8.png

310

700

蒸鍍5min

圖片9.png


鍍膜形貌：

由SEM圖可看到，鍍層表面顆粒大小均勻，總體分布均勻。


樣品

SEM形貌

圖片1.jpg

圖片3.jpg

圖片5.jpg

圖片7.jpg

圖片9.jpg

圖片2.jpg

圖片4.jpg

圖片6.jpg

圖片8.jpg

圖片10.jpg



XRD檢測：

對比兩個XRD圖可知，蒸鍍后基底出現(xiàn)新的Sb2Se3成分，說明Sb2Se3薄膜成功蒸鍍。

圖片11.jpg  圖片12.jpg



光能薄膜電池循環(huán)檢測：

對蒸鍍后的材料做電池循環(huán)檢測，循環(huán)周期為15 ，說明成功制做出光能薄膜電池。

圖片13.jpg  圖片14.jpg



若有疑問或需要更多詳細數(shù)據(jù)請聯(lián)系科晶實驗室


應(yīng)用提示

·頂部載樣臺近距離旋轉(zhuǎn)蒸鍍時，應(yīng)注意上下距離，避免旋轉(zhuǎn)時夾樣夾螺釘刮蹭坩堝。

·使用冷阱時，由于是剛性連接，注意冷阱與腔體保持在同一水平線上，避免腔體升降產(chǎn)生應(yīng)力導(dǎo)致接口脫離。

·由于氣瓶內(nèi)部氣壓較高，所以向爐管內(nèi)通入氣體時，氣瓶上必須安裝減壓閥。

警示

·爐管內(nèi)氣壓不可高于0.02MPa。

·對于樣品加熱的實驗，不建議關(guān)閉爐管法蘭端的抽氣閥和進氣閥使用。若需要關(guān)閉氣閥對樣品加熱，則需時刻關(guān)注壓力表的示數(shù)，若氣壓表示數(shù)大于0.02MPa，必須立刻打開泄氣閥，以防意外發(fā)生（如爐管破裂，法蘭飛出等）


相關(guān)可選

·可選用真空系統(tǒng)配套使用：機械泵真空度達 50 mtorr(圖1)；

                         分子泵真空度可達 10E-4 torr。(圖2)

·如果使用腐蝕性氣體，請使用冷阱或防腐干泵。(圖3)

·可選購合肥科晶的循環(huán)水冷機配套使用。(圖4)

·多種混氣、供氣系統(tǒng)可選。(圖5)

·可選購5"x5"的石墨坩堝放于底部載樣臺用來盛放蒸發(fā)原料，提高溫度均勻性。（圖6）


配件1.jpg        配件2.jpg      配件3.jpg  

     圖1                        圖2                        圖3



配件4.jpg        配件5.jpg        配件6.jpg

    圖4                        圖5                        圖6


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