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超聲旋轉(zhuǎn)噴涂儀 (300-3000 rpm,300mm晶片)
型號:
VTC-300USS
產(chǎn)品概述:
VTC-300USS超聲霧化旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī),噴膠機(jī)可以精確控制溶液化學(xué)計(jì)量比、霧粒噴出速度、霧粒大小等參數(shù)。VTC-300USS超聲霧化旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī),噴膠機(jī)采用步進(jìn)電機(jī)和微處理器控制容積泵精確輸送溶液(溶液可以選擇被加熱或不被加熱);霧化器被固定在可擺動的支撐臂上,從而確保涂層的均勻性,通過超聲波霧化器噴出的霧狀顆粒在基片上沉積作用,可以制備厚度較薄的微納米涂層;VTC-300USS超聲霧化旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī),噴膠機(jī)可吸附的基片直徑可長達(dá)12"(300mm),同時(shí)可控制基底溫度使薄膜快速烘干(選擇可加熱襯底的烘烤燈),以滿足實(shí)驗(yàn)需要。
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技術(shù)參數(shù)產(chǎn)品視頻實(shí)驗(yàn)案例警示/應(yīng)用提示配件詳情
設(shè)備名稱

超聲旋轉(zhuǎn)噴涂儀(300-3000 rpm,300mm晶片)—VTC-300USS (2019.12.27—科晶實(shí)驗(yàn)室審核)

產(chǎn)品提示

1、多種配件可選提示   2、特殊設(shè)備尺寸設(shè)備   3、科晶實(shí)驗(yàn)室邀請?zhí)崾?/strong>   4、配件妥善保管提示

產(chǎn)品特點(diǎn)

超聲霧化法是將溶液霧化后噴涂到基體上,從而得到想要的物質(zhì)結(jié)構(gòu),可選配上部加熱烘烤結(jié)構(gòu)。

此種材料制備方法特別適用于沉積氧化物,而且在制備透明電極的應(yīng)用中已有相當(dāng)長的歷史。

現(xiàn)在這種方法在制備鈣鈦礦型太陽能電池中得廣泛應(yīng)用。

基本參數(shù)

1、輸入電源:208V-240V 50Hz/60Hz


2、旋轉(zhuǎn)涂膜模塊

  基片直徑200mm,最高轉(zhuǎn)速可達(dá)3000rpm;基片直徑300mm,最高轉(zhuǎn)速可達(dá)3000rpm。


                  


3、超聲霧化模塊


                

  

  顆粒大?。?10um-20um

  流量大?。?0.6pl~4ml/min

  固體含量: ≤ 10%

  粘度大?。?≤ 100cPs 


4、注液系統(tǒng)

     本司提供多種形式的供液系統(tǒng)(單路、多路、加熱等)


      注射泵             



更多參數(shù)請聯(lián)系科晶銷售部

產(chǎn)品規(guī)格

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安裝條件

本設(shè)備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。

1、水:不需要

2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地

3、氣:設(shè)備噴頭為氣動輔助,需配套空氣壓縮機(jī)或者氣瓶(含減壓閥)

4、工作臺:占地面積2m2以上

5、通風(fēng)裝置:需要

應(yīng)用技術(shù)提示

? 旋轉(zhuǎn)噴涂儀必須放到通風(fēng)柜中使用,防止液體揮發(fā)到實(shí)驗(yàn)室中,(可在本公司購買通風(fēng)柜)

? 為了獲得最佳的涂覆效果,建議在涂覆之前對基片進(jìn)行等離子清洗(點(diǎn)擊圖片查看等離子清洗機(jī)詳細(xì)資料),采用等離子清洗后不僅可以清潔基片表面,而且可大大減小基片的表面張力


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標(biāo)準(zhǔn)配件

旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)1套;

超聲霧化電源+霧化噴頭1套;

單路供液系統(tǒng)1套;

無油泵1臺

可選配件

多路(可加熱)供液系統(tǒng),烘干裝置等

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