設(shè)備名稱 | 超聲旋轉(zhuǎn)噴涂儀(300-3000 rpm,300mm晶片)—VTC-300USS (2019.12.27—科晶實(shí)驗(yàn)室審核) |
產(chǎn)品提示 | 1、多種配件可選提示 2、特殊設(shè)備尺寸設(shè)備 3、科晶實(shí)驗(yàn)室邀請?zhí)崾?/strong> 4、配件妥善保管提示 |
產(chǎn)品特點(diǎn) | 超聲霧化法是將溶液霧化后噴涂到基體上,從而得到想要的物質(zhì)結(jié)構(gòu),可選配上部加熱烘烤結(jié)構(gòu)。 此種材料制備方法特別適用于沉積氧化物,而且在制備透明電極的應(yīng)用中已有相當(dāng)長的歷史。 現(xiàn)在這種方法在制備鈣鈦礦型太陽能電池中得廣泛應(yīng)用。 |
基本參數(shù) | 1、輸入電源:208V-240V 50Hz/60Hz 2、旋轉(zhuǎn)涂膜模塊 基片直徑200mm,最高轉(zhuǎn)速可達(dá)3000rpm;基片直徑300mm,最高轉(zhuǎn)速可達(dá)3000rpm。 3、超聲霧化模塊
顆粒大?。?10um-20um 流量大?。?0.6pl~4ml/min 固體含量: ≤ 10% 粘度大?。?≤ 100cPs 4、注液系統(tǒng) 本司提供多種形式的供液系統(tǒng)(單路、多路、加熱等) 更多參數(shù)請聯(lián)系科晶銷售部 |
產(chǎn)品規(guī)格 | |
安裝條件 | 本設(shè)備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水:不需要 2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地 3、氣:設(shè)備噴頭為氣動輔助,需配套空氣壓縮機(jī)或者氣瓶(含減壓閥) 4、工作臺:占地面積2m2以上 5、通風(fēng)裝置:需要 |
應(yīng)用技術(shù)提示 | ? 旋轉(zhuǎn)噴涂儀必須放到通風(fēng)柜中使用,防止液體揮發(fā)到實(shí)驗(yàn)室中,(可在本公司購買通風(fēng)柜) ? 為了獲得最佳的涂覆效果,建議在涂覆之前對基片進(jìn)行等離子清洗(點(diǎn)擊圖片查看等離子清洗機(jī)詳細(xì)資料),采用等離子清洗后不僅可以清潔基片表面,而且可大大減小基片的表面張力 |
標(biāo)準(zhǔn)配件 | 旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)1套; 超聲霧化電源+霧化噴頭1套; 單路供液系統(tǒng)1套; 無油泵1臺 | ||
可選配件 | 多路(可加熱)供液系統(tǒng),烘干裝置等 |
Copyright © 2019 合肥科晶材料技術(shù)有限公司 版權(quán)所有 皖I(lǐng)CP備09007391號-1 皖公網(wǎng)安備 34012302000974號