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3L數(shù)控等離子清洗機 (配真空泵,6"x6.5"石英腔室)
型號:
PCE-6
產(chǎn)品概述:
PCE-6小型等離子清洗機的等離子腔體為 Φ160mm×190mm的石英腔體,采用的射頻電源功率3.0MHz(1%),輸出功率7.2W、10.2W、29.6W三檔可調(diào)。本機主要是通過空氣、氧氣或氬氣等氣體的等離子體來去除基片上的氧化層和污染物,同時也可改變物體表面的性質(zhì)(如親水和疏水性等),對于基片的清洗以及薄膜處理是較為理想的設(shè)備。PCE-6小型等離子清洗機體積小,占用的空間少,可有效節(jié)約實驗室空間。PCE-6小型等離子清洗機配有一個雙旋真空泵,可對腔體進(jìn)行抽真空,同時通入氬氣等氣體,適用于對易氧化的物品的清洗。
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技術(shù)參數(shù)產(chǎn)品視頻實驗案例警示/應(yīng)用提示配件詳情
設(shè)備名稱

3L數(shù)控等離子清洗機(配真空泵,6"x6.5"石英腔室)-PCE-6 (2019.11.1-科晶實驗室審核)


產(chǎn)品提示

1、多種配件可選提示   2、特殊設(shè)備尺寸設(shè)備    3、科晶實驗室邀請?zhí)崾?/span>    4、配件妥善保管提示


設(shè)備特點

擁有6英寸清洗腔室,可清洗約5英寸直徑的基片。

·通過控制面板的按鍵及開關(guān),可控制調(diào)節(jié)射頻功率、清洗時間如圖一。

真空泵的開閉如圖二。

·時間、功率、真空度等信息顯示在一組4位數(shù)碼管上。

·設(shè)有一個三通閥,可大體控制進(jìn)氣流量,以及大氣流清洗腔體,進(jìn)氣接口為6mm卡套接口。

·選用大功率射頻電源設(shè)備可進(jìn)行等離子刻蝕和等離子灰化實驗。


圖一.gif  圖二.gif



主要參數(shù)

輸入功率:AC 220V,50/60 Hz,  

真空泵:<500W

總功率:<600W

射頻功率:射頻功率(施加在線圈上的高壓和高頻電流)可以在三個級別上調(diào)節(jié):低設(shè)置7.2W;中設(shè)置10.2W; 高設(shè)定29.6W

射頻頻率:3MHz,功率3檔可手動調(diào)節(jié)

真空泵:120L/min,直連式雙旋真空泵

極限真空度:50mtorr


圖片1.png



更多參數(shù)請聯(lián)系科晶銷售部

機體結(jié)構(gòu)

·高純石英腔體,Φ160mm×190mm,采用鋁制折疊式法蘭進(jìn)行密封,法蘭上設(shè)有Φ45mm 的觀察窗

·帶觀察窗的鉸鏈?zhǔn)介T,便于樣品加載和觀察

 圖片2.jpg  圖片3.jpg

 

控制面板:控制功能:清潔時間,射頻功率,真空泵。

 圖片4.jpg


惰性氣體

·通入氣體:可通入多種氣體來產(chǎn)生等離子,如N2、Ar、H2、O2、Air和混合氣體等(根據(jù)材料性質(zhì)選定)

·等離子清洗機不得使用易燃及腐蝕性氣體


清洗及蝕刻

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外形尺寸

·400mm×300mm×300mm

圖片5.png


凈重

10.2kg


質(zhì)保期

一年保修,終身技術(shù)支持。

特別提示:1.耗材部分如加熱元件,石英管,樣品坩堝等不包含在內(nèi)。2.因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內(nèi)。

點擊查看售后服務(wù)承諾書


科晶應(yīng)用技術(shù)實驗室用此設(shè)備清洗基片,清除表面污染物,以供參考。


清洗前向基片上滴入0.05ml水滴,其結(jié)果如圖所示。通入氬氣清洗十分鐘后,向基片上滴入0.05ml水滴,其結(jié)果如圖所示。

石英

圖片5.jpg

圖1

清洗前

圖片6.jpg

圖2

清洗后

硅片

圖片7.jpg

圖3

清洗前

圖片8.jpg

圖4

清洗后


警示

1、正壓會損壞等離子石英室。

2、清洗機工作時禁止拆開上蓋,并關(guān)閉清洗腔門。

3、嚴(yán)禁堵塞后部和下部通風(fēng)口。損壞電源。

4、電子管需預(yù)熱。否則會損壞電子管壽命,甚至損壞電源。

5、不建議通入腐蝕性氣體。




·如果需要一個通入兩種氣體的工藝解決方案,PCE-6等離子清洗機可以與2路混氣系統(tǒng)組合,如圖一。

·您可以訂購石英晶片載體來盛放清潔的基片,如圖二。

·您可選配雙極旋片式真空泵進(jìn)行抽真空,如圖三


圖片6.png    圖片7.png    圖片8.png

圖一                   圖二                     圖三

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