- 加熱爐設(shè)備
- 晶體及材料
- 破碎/球磨設(shè)備
- 壓片設(shè)備
- 輥壓設(shè)備
- 切割設(shè)備
- 磨拋設(shè)備
- 清洗設(shè)備
- 電池研發(fā)設(shè)備
- 薄膜制備
- 配件
- 其它實驗室設(shè)備
氧化鈰拋光微粉
- 產(chǎn)品概述:
- 氧化鈰拋光微粉適于UNIPOL系列研磨拋光機的研磨拋光使用,氧化鈰拋光微粉廣泛用于玻璃拋光,具有切削力強、拋光時間短、使用壽命長、拋光精度高的優(yōu)點。該氧化鈰拋光微粉的性能優(yōu)良,拋光效果較好。氧化鈰拋光微粉使用溫度在10—40℃為宜,溫度過高會影響氧化鈰的拋光效果,使用時將氧化鈰微粉配置成一定濃度的液體進行使用,濃度范圍在80—100g/L,然后將液體以滴的形式投放到拋光盤中對樣品進行拋光。該拋光微粉使用方便,對環(huán)境的污染小,是實驗室對玻璃進行拋光的不可缺少的拋光介質(zhì)。
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