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A-Z晶體及材料加熱爐系列樣品處理設(shè)備電池制備設(shè)備分析檢測設(shè)備其他實驗室設(shè)備技術(shù)支持/服務(wù)培訓(xùn)

加熱爐設(shè)備
晶體及材料
破碎/球磨設(shè)備
壓片設(shè)備
輥壓設(shè)備
切割設(shè)備
磨拋設(shè)備
清洗設(shè)備
電池研發(fā)設(shè)備
薄膜制備
配件
其它實驗室設(shè)備

熱處理設(shè)備: 管式爐箱式爐箱管混合

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加熱方式: 電阻加熱紅外燈管加熱感應(yīng)加熱微波加熱

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加熱形式: 常規(guī)爐立式箱管混合式回轉(zhuǎn)爐

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加熱溫度: 300-1200 1250-1500 1600-2000

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加熱溫區(qū): 單溫區(qū) 雙溫區(qū) 三溫區(qū) 多溫區(qū) 感應(yīng)加熱專用

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管徑: ф?25 ф?50 ф?60 ф?80 ф?100 ф?120及以上

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PPM級雙柱惰性氣體凈化器

型號：: PPM
產(chǎn)品概述：: GPH-DHDO含有兩部分氣體凈化器（一個用于除氧另一個用于除水），兩個凈化器用1/4”不銹鋼管和兩個針閥連接在一起，可以與任何科晶混氣系統(tǒng)連接。在室溫下，它將氣態(tài)雜質(zhì)降低到ppm級。它可將99.9%純度的惰性氣體如（氮、氦、氖、氬、氪、和氙）中的H2O、O2、CO2、H2和CO以及非甲烷的烴類化合物降至< 0.1 ppm，以及可將H2中的H2O、O2、CO2降至< 0.1 ppm。此外此設(shè)備帶有加熱功能，可以加熱到300℃對除氧除水單位進(jìn)行再生，方便長期循環(huán)使用。

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技術(shù)參數(shù)產(chǎn)品視頻實驗案例警示/應(yīng)用提示配件詳情

名稱	惰性氣體凈化系統(tǒng)-GPH-DHDO
產(chǎn)品特點	·輸入：輸入氣體純度要求：<1000 ppm（99.9％） ·輸出：清除雜質(zhì)至<0.1 ppm（O2≤0.1 ppm H2O，-76℃露點溫度）（請點擊此處轉(zhuǎn)換濕度單位） ·304L不銹鋼罐（<10 Ra EP） ·再生操作簡單方便 ·內(nèi)置數(shù)字溫度控制器和氣體流量計控制 ·再生后可凈化多達(dá)80L惰性氣體 ·設(shè)備需在270℃下再生（需使用5N純度的95％N2 + 5％H2氣體）
電源	·220v 50Hz ·功率：500W（加熱過程中）
最大壓力輸出	0.5MPa
工作溫度	室溫-300℃
氣體泄漏率	<2 x 10-9 atm cc/sec He
溫度控制器	控溫精度±1 oC
最大氣流	400mL/min
質(zhì)保期	一年保修，終身技術(shù)支持。特別提示：1.耗材部分如加熱元件，石英管，樣品坩堝等不包含在內(nèi)。 2.因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內(nèi)。點擊查看售后服務(wù)承諾書。
使用提示	·您可以選購精密質(zhì)子流量計，輸入氣體更加準(zhǔn)確（圖一） ·此系統(tǒng)可以和本公司所有的管式爐和CVD系統(tǒng)相連接（圖二）圖一圖二
外形尺寸	445mm L X 400mm W X 190mm H
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