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Si晶體基片
產(chǎn)品概述:
化學(xué)符號(hào)為Si,主要用途有:制作半導(dǎo)體器件、紅外光學(xué)器件及太陽能電池襯底等材料
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技術(shù)參數(shù)產(chǎn)品視頻實(shí)驗(yàn)案例警示/應(yīng)用提示配件詳情
產(chǎn)品名稱

Si 單晶基片


技術(shù)參數(shù)

晶體結(jié)構(gòu):               

立方晶系

晶格常數(shù):

a=5.4301 ? 

摻雜類型:

N型不摻雜、N型摻P、N型摻As、N型摻Sb、P型摻B       

硬度(mohs):

6.5

電阻率:

10000~0.001Ω.cm

超導(dǎo)率(w/m.k):

149

密度:

2.329(g/cm3)

熔點(diǎn):

1414℃

熱膨脹系數(shù)(/k):

2.6×10-6

生長(zhǎng)方法:

CZ和FZ



產(chǎn)品規(guī)格

常規(guī)晶向:                     

、 

常規(guī)尺寸:

Dia4”x0.5mm、dia2”x0.5mm        

拋光情況:

單拋、雙拋、細(xì)磨

拋光面粗糙度:

< 10A

注:尺寸及方向可按照客戶要求定做。



晶體缺陷

人工生長(zhǎng)單晶都可能存在晶體內(nèi)部缺陷。



標(biāo)準(zhǔn)包裝

1000級(jí)超凈室,100級(jí)超凈袋或單片盒封裝


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附件

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